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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • XRS2000水性墨水納米高剪切分散機

    水性墨水納米高剪切分散機 轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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    2025-09-06

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  • XMD2000釩酸鉍高剪切研磨分散機

    釩酸鉍高剪切研磨分散機轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000多壁碳納米管導(dǎo)電劑分散機

    多壁碳納米管導(dǎo)電劑分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XMD2000復(fù)合碳材料高剪切分散機

    復(fù)合碳材料高剪切分散機研磨分散機轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XRS2000微孔型水性墨水高剪切分散機

    微孔型水性墨水高剪切分散機轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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  • XMD2000復(fù)合催化劑高剪切分散機

    復(fù)合催化劑高剪切分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XMD2000丙烯酸防水涂料高剪切分散機

    丙烯酸防水涂料高剪切分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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  • XMD2000奧卡西平片劑高剪切分散機

    奧卡西平片劑高剪切分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉(zhuǎn)子區(qū)產(chǎn)生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經(jīng)過數(shù)次循環(huán),完成分散過程。

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